半導體等離子體刻蝕機原理優勢

在光刻工藝中，半導體(ti) 表麵會(hui) 有殘膠，這需要一個(ge) 好的方式進行處理，將殘膠清除的同時不會(hui) 對產(chan) 品造成損傷(shang) ，甲岸等離子刻蝕機就是這樣的一個(ge) 設備，通過等離子體(ti) 進行處理，效果非常不錯，感興(xing) 趣的小夥(huo) 伴可以繼續瀏覽哦！

一、等離子刻蝕機去膠原理

甲岸等離子刻蝕機的去膠是一種幹式的去膠方式，將產(chan) 品放入設備中，通過真空泵抽空氣體(ti) ，使等離子刻蝕機保持真空狀態，這時候將工藝氣體(ti) 放入設備中進行反應，產(chan) 生活性等離子體(ti) ，與(yu) 表麵的殘膠發生反應；光刻膠的基本成分是碳氫化合物，在反應中，這些化合物會(hui) 消失，產(chan) 生一氧化碳、二氧化碳、水等。這些物質會(hui) 被真空泵抽走，表麵清潔就完成了。

二、等離子刻蝕機去膠優(you) 勢

在過去，很多工廠都采用的濕式處理法，但是隨著技術不斷變革，產(chan) 品不斷升級，處理要求也隨之升級，幹式法逐步取代了濕式處理；

等離子幹刻機的去膠隻需氣體(ti) 的參與(yu) ，無需化學試劑的浸泡，無需烘幹，整個(ge) 處理環保幹淨，清洗過程可控性非常強，而且不會(hui) 對周圍環境以及人員造成不良的影響；這種工藝還能夠降低成本，提高產(chan) 品的良品率以及生產(chan) 效率，所以設備在半導體(ti) 製程的各類方麵都廣泛的得到了應用。

殘膠去除在半導體(ti) 製造過程中非常重要。清潔是否幹淨徹底，表麵有無破損等。都會(hui) 影響後續的工藝，進而影響整體(ti) 製造和性能，對良品率有重要影響。可見一個(ge) 好的處理工藝，好的設備是可以影響產(chan) 品的，等離子刻蝕機是可以提高公司的利潤，降低成本的。

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