影響真空等離子體處理清洗效率的幾大參數

在等離子體(ti) 清洗工藝當中，影響清洗效率的參數主要有以下幾個(ge) 方麵：

（1）放電氣壓（真空度）：對於(yu) 低壓等離子體(ti) ，放電氣壓增加，等離子體(ti) 密度越高，電子溫度隨之降低。而等離子體(ti) 的清洗效果取決(jue) 於(yu) 其密度和電子溫度兩(liang) 個(ge) 方麵，如密度越高清洗速率越快、電子溫度越高清洗效果越好。因此，放電氣壓的選擇對低壓等離子體(ti) 清洗工藝至關(guan) 重要。

（2）氣體(ti) 種類：待處理物件的基材及其表麵汙染物具有多樣性，而不同氣體(ti) 放電所產(chan) 生的等離子體(ti) 清洗速度和清洗效果又相差甚遠。因此應該有針對性地選擇等離子體(ti) 的工作氣體(ti) ，如可選用氧氣等離子體(ti) 去除物體(ti) 表麵的的油脂汙垢，選用氫氬混合氣體(ti) 等離子體(ti) 去除氧化層

（3）放電功率：放電功率增大，可以增加等離子體(ti) 密度和活性粒子能量，因而提高清洗效果。例如，氧氣等離子體(ti) 的密度受放電功率的影響較大。

（4）暴露時間：待清洗材料在等離子體(ti) 中的暴露時間對其表麵清洗效果及等離子體(ti) 工作效率有很大影響。暴露時間越長清洗效果相對越好，但工作效率降低。並且，過長時間的清洗可能會(hui) 對材料表麵產(chan) 生損傷(shang) 。

（5）其他：等離子體(ti) 清洗工藝中的氣體(ti) 分配、氣體(ti) 流量、電極設置等參數也會(hui) 影響清洗效果。因此需要根據實際情況和清洗要求設定具體(ti) 的、適合的工藝參數。

在實際的工作中，選擇合適的工藝參數至關(guan) 重要，需要將各種影響因素綜合考量和運用。不能簡單的將參數獨立使用。

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