等離子清洗機原理，表麵處理工藝，等離子體技術設備

隨著社會(hui) 經濟的發展，清洗技術不斷地進步與(yu) 革新，從(cong) 早先傳(chuan) 統的手工清洗，發展到有機溶劑清洗，高壓水射流清洗和超聲波清洗。科技的飛速發展，本世紀初作為(wei) 一種新型清潔處理技術—等離子清洗技術的出現，該清洗技術已逐步應用於(yu) 汽車製造塗裝烤漆前預處理，液晶玻璃表麵清洗，電路板印刷，電鍍，除油汙代替化學處理等領域。

等離子清洗技術在應用過程中表現出清洗效果徹底，處理表麵穩定，清洗難度大的部位得到有效清潔等特點。等離子清洗機的工作原理，主要依靠等離子體(ti) 中活性粒子的“活化作用”達到去除物體(ti) 表麵汙漬的目的。

就反應機理來看, 等離子體(ti) 清洗通常包括以下過程:無機氣體(ti) 被激發為(wei) 等離子態;氣相物理被吸附在固體(ti) 表麵;吸附基團與(yu) 固體(ti) 表麵分子反應生成產(chan) 物分子;產(chan) 物分子解析形成氣相;反應殘餘(yu) 物脫離表麵。

等離子體(ti) 與(yu) 材料表麵產(chan) 生的反應主要有兩(liang) 種：一種是靠等離子做物理反應,另一種是靠自由基來做化學反應。

等離子清洗與(yu) 材料表麵物理反應機理

等離子體(ti) 與(yu) 材料表麵產(chan) 生的物理反應主要是利用離子作純物理的撞擊，把材料表麵的原子或附著材料表麵的離子打掉，由於(yu) 離子在壓力較低時的平均自由基較輕長，有能量的積累，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越容易產(chan) 生撞擊，所以若要以物理反應為(wei) 主時，就必須控製較低的壓力下來進行反應，這樣清洗效果較好。

等離子體(ti) 與(yu) 材料表麵產(chan) 生的化學反應主要是利用等離子體(ti) 裏的自由基來與(yu) 材料表麵做化學反應，在化學反應裏常用的氣體(ti) 有氧氣、氫氣、甲烷等，這些氣體(ti) 在電漿內(nei) 反應成高活性的自由基，自由基的作用表現在化學反應過程中能量傳(chuan) 遞的“活化”作用，處於(yu) 激發狀態的自由基具有較高的能量，易於(yu) 與(yu) 物體(ti) 表麵分子結合時會(hui) 形成新的自由基，新形成的自由基同樣處於(yu) 不穩定的高能量狀態，很可能發生分解反應，在變成較小分子同時生成新的自由基，這種反應過程還可能繼續進行下去，最後分解成水、二氧化碳之類的簡單分子。

在這些情況下，會(hui) 釋放出大量的結合能，這種能量成為(wei) 引發新的表麵反應推動力，從(cong) 而引發物體(ti) 表麵上的物質發生化學反應而被去除。

等離子清洗技術的特點及優(you) 勢

等離子清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型，對金屬、半導體(ti) 和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞(ya) 胺、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好的清潔處理，並可實現整體(ti) 和布局以及複雜結構的清洗。對處理物幾何形狀無限製。

特別是對物體(ti) 表麵形狀複雜、精密而又很難清洗的零部件，如精密零部件表麵的空穴、凹槽、狹縫、微孔等表麵形狀均能得到比較好的清潔處理。

等離子清洗屬於(yu) 固氣幹式清潔技術，采用氣體(ti) 作為(wei) 清洗介質，有效地避免了因液體(ti) 介質清洗對被清洗物帶來的二次汙染。

等離子清洗機外接一台真空泵，工作時清洗腔中的等離子體(ti) 輕柔衝(chong) 刷被清洗物的表麵，短時間的清洗就可以使有機汙染物被徹底地清洗掉，同時汙染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。

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