大氣等離子清洗機、真空等離子清洗機、微波等離子清洗機，三者有什麽區別？

1、大氣等離子清洗機

一般采用空氣作為(wei) 生發氣體(ti) 。特點是氣體(ti) 的需求量非常高，工業(ye) 應用上常用中頻作為(wei) 激發能源，頻率在39KHZ左右。

大氣等離子清洗機有直噴、旋轉、寬幅等不同處理方式所衍生出的各類設備類型。這幾種類型的區別主要在於(yu) 根據產(chan) 品的大小、要求選擇不同的處理方式。比如處理麵小的可以選擇直噴式等離子清洗機，處理麵適中的可以選擇旋轉下式等離子清洗機，而處理麵較大的，則可以選擇寬幅等離子清洗機。

等離子工作形態以直噴跟旋轉兩(liang) 種比較常見。設備工作過程中會(hui) 產(chan) 生超標的臭氧與(yu) 氮氧化物等對人有害的氣體(ti) ，所以必須要配套廢氣排放係統一同工作。因為(wei) 特性，大氣等離子主要適用於(yu) 對處理效果要求高，並且後續運行成本低的行業(ye) ，例如手機蓋板，手機保護膜等行業(ye) 。

2、真空等離子清洗機

主要分為(wei) 兩(liang) 種，即腔式和大氣壓式，此兩(liang) 種等離子技術均為(wei) 直接式等離子。腔式等離子的特點是需要一個(ge) 封閉的腔體(ti) ，電極內(nei) 置於(yu) 真空腔體(ti) 中，工作時首先用真空泵將腔體(ti) 內(nei) 空氣吸出形成真空環境，然後等離子在整個(ge) 腔體(ti) 中形成並直接對在內(nei) 的材料進行表麵處理。此種腔式等離子的處理效果要優(you) 於(yu) 大氣等離子。後續運行成本較高，主要是因為(wei) 其真空泵連續工作的功耗較大。另外設備工作時在真空環節需要的時間較多，對采用自動化生產(chan) 線及要求處理效率的工業(ye) 領域來說，局限性比較明顯，大氣壓光式等離子技術。RF射頻作為(wei) 激發能源，工作頻率是13.57MHZ。采用氬氣（Ar）作為(wei) 發生氣體(ti) ，氧氣或者氮氣作為(wei) 反應氣體(ti) 。

真空等離子清洗機的特點就是在設備中有進行等離子處理的反應腔。依據產(chan) 品的需求，反應腔室的容積、結構也都不同。相對大氣等離子清洗機來說，因為(wei) 在反應腔室內(nei) 進行處理，其產(chan) 品的處理麵更加大，且一致性較好，對等離子處理效果要求較高的產(chan) 品來講，真空等離子清洗機是不錯的選擇。

3、微波等離子清洗機

半導體(ti) 行業(ye) PLASMA解決(jue) 方案，可根據產(chan) 品特性及客戶需求，提供射頻等離子自動化係統或微波自動化係統，還可提供完善的在線式及腔體(ti) 式產(chan) 品係列供您選擇。

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