等離子表麵處理設備常用氣體有哪些？分別有什麽作用？

等離子表麵處理設備常用氣體(ti) 有：氮氣、氧氣、氬氣、氦氣等，其作用分別介紹如下：

1、氮氣 (N2)

氮氣是等離子處理中最常用的氣體(ti) 之一。其主要作用是提供等離子體(ti) 的穩定性和冷卻作用。氮氣可作為(wei) 載體(ti) 氣體(ti) ，稀釋處理區域中的其他氣體(ti) ，降低反應的強度。此外，氮氣還可用於(yu) 清洗和去除雜質。

2、氧氣 (O2)

氧氣在等離子處理中常用於(yu) 氧化反應。它可以被用來增加表麵的氧含量，改善材料的表麵性質。氧氣在等離子體(ti) 中的存在可以促進氧化反應的進行，並且可以影響氧化反應的速率和程度。

3、氬氣（Ar）

氬氣是一種惰性氣體(ti) ，廣泛應用於(yu) 等離子處理中。它主要用於(yu) 稀釋其他氣體(ti) ，降低反應的強度，並且可以提供等離子體(ti) 的穩定性。氬氣還可用於(yu) 清洗和去除雜質。

4、氦氣 (He)

氦氣在等離子處理中的作用與(yu) 氬氣類似，也是提供等離子體(ti) 的載體(ti) 。與(yu) 氬氣不同的是，氦氣的分子量更小，因此可以在等離子體(ti) 中更加容易地擴散和傳(chuan) 遞能量，從(cong) 而提高等離子體(ti) 的效率。

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