等離子去膠機12L
應用範圍
對電路板、外延片、芯片、環氧基光刻膠去除。適用於(yu) 所有的基材及複雜的幾何構形都可以進行等離子體(ti) 去膠、活化、刻蝕、清洗、鍍膜。
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雷竞技竞猜平台等離子去膠機對電路板、外延片、芯片、環氧基光刻膠去除，提高材料清潔度、附著力、粘接力以及表麵分子的活性，滿足用戶對產(chan) 品表麵處理需求。
產(chan) 品應用
1、適用於(yu) 所有的基材及複雜的幾何構形進行等離子體(ti) 去膠、活化、刻蝕、清洗、鍍膜
2、提高材料清潔度、附著力、粘接力以及表麵分子的活性
產(chan) 品特點
- 可以根據客戶需求定製。
- 小巧、操作簡單、易維護。
- 進口針閥精密流量控製計，精度高。
- 引進德國核心等離子技術，質量有保障。
- 多路工藝反應氣體通道，保證產品清洗效果。
- 316不鏽鋼材質，耐腐蝕，環保不產生金屬汙染。
型 號 | AP-RR8 | ||
等離子源係統 | 頻 率 | 13.56MHz 射頻 | |
功 率 | 0~300W可調 | ||
真空係統 | 真空腔體(ti) | 材質 | 石 英 |
腔體(ti) 內(nei) 部尺寸 | Φ250 * Dept.260（直徑*深mm) | ||
腔體(ti) 容積 | 12 L | ||
處理最大尺寸 | 8英寸 | ||
泵 | 真空泵 | 幹泵 | |
真空管路 | 不鏽鋼管、不鏽鋼波紋管 | ||
真空計 | 1×105~1×10-1Pa | ||
質量流量計 | ＜±1% FS | ||
氣路控製 | 4路處理氣體(ti) 氣路，氣體(ti) 流量可調 | ||
極限真空 | 5Pa | ||
流量範圍 | 0-500SCCM（可調） | ||
工藝氣體(ti) | Ar、N₂、O₂、H₂等等（可選） | ||
外觀參數 | 外形尺寸(MM) | 750*450*500(寬*高*深） | |
重 量 | 55KG | ||
設施配置 | 電 力 | 單相三線製AC220V ,50-60Hz。所有配線符合《低壓配電設計規範 GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設計規範》等國標標準相關(guan) 規定。 | |
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