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應用範圍 適用於(yu) 所有的基材及複雜的幾何構形都可以進行等離子體(ti) 活化、刻蝕、清洗、鍍膜。
雷竞技竞猜平台等離子刻蝕機10L
雷竞技竞猜平台等離子刻蝕機對進行介質刻蝕、矽刻蝕、金屬刻蝕,實現各項異性刻蝕,確保細小圖形轉移後的保真性。滿足用戶對產(chan) 品表麵處理需求。
產(chan) 品應用
1、適用於(yu) 所有的基材及複雜的幾何構形都可以進行等離子體(ti) 活化、刻蝕、清洗、鍍膜。
產(chan) 品特點





型號 | AP-E10 | ||
等離子源係統 | 頻 率 | 13.56MHz 射頻 | |
功 率 | 0~300W 可調 | ||
真空係統 | 真空腔體(ti) | 材質 | 石英、航空鋁(選配) |
腔體(ti) 內(nei) 部尺寸(MM) | D200*320*(直徑*深) | ||
腔體(ti) 容積 | 10L | ||
極板 | 無 | ||
密封性 | 軍(jun) 工級焊接密封 | ||
泵 | 真空泵 | 雙極泵/幹泵(選配) | |
真空管路 | 不鏽鋼管、不鏽鋼波紋管 | ||
真空計 | 電阻矽 | ||
氣體(ti) 流量計 | <±1% FS | ||
氣路控製 | 2路處理氣體(ti) 氣路,氣體(ti) 流量可調 | ||
極限真空 | 3Pa | ||
適用氣體(ti) | 流量範圍 | 0-500SCCM(可調) | |
工藝氣體(ti) | Ar、N₂O₂、H₂等等(可選) | ||
控製係統 | 1、PLC 自動控製; | ||
2、7寸觸摸屏,圖形用戶界麵; | |||
3、配方程序為(wei) 0~99; | |||
4、多級權限操作; | |||
5、圖形化曲線圖自動監測工藝參數狀態及錯誤信息; | |||
6、存儲(chu) 工藝數據及錯誤信息; | |||
7、報警信息提示及追溯; | |||
8、圖形化界麵檢測處理參數; | |||
9、自動、手動操作可切換; | |||
10、維護提示緊急停止按鈕; | |||
11、門感應器和真空互鎖; | |||
12、機器運行信號指示; | |||
13、機器運行結束提示; | |||
外觀參數 | 外形尺寸(MM) | 550*1450*650(寬高深) | |
重 量 | 200KG | ||
設施配置 | 電 力 | 三線,單相製AC220V ,50-60Hz。所有配線符合《低壓配電設計規範 GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設計規範》等國標標準相關(guan) 規定 | |
壓縮空氣 | 幹燥壓縮空氣CDA | ||
其 它 | 提供操作手冊(ce) 、維護手冊(ce) 、安裝手冊(ce) ,易損件備件清單. | ||

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