等離子去膠機的分類及工作原理
發表時間： 2024-03-01 11:03:16
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等離子去膠機的分類及工作原理
等離子去膠機可分為(wei) 濕法和幹法兩(liang) 類。
濕法去膠工藝使用溶劑對光刻膠等進行溶解；幹法去膠工藝可視為(wei) 等離子刻蝕技術的延伸，主要通過等離子體(ti) 和薄膜材料的化學反應完成。
1、濕法去膠：
濕法去膠中使用的溶劑包括有機溶劑以及無機溶劑。有機溶劑主要有丙酮和芳香族的有機溶劑等；而無機溶劑則主要是硫酸和雙氧水等，將光刻膠中的碳元素氧化成為(wei) 二氧化碳，把光刻膠從(cong) 矽片的表麵去除。由於(yu) 溶劑易與(yu) 金屬反應，因此不適合用於(yu) Al、Cu等製程的去膠。
2、幹法去膠：
利用等離子體(ti) 將光刻膠去除。以使用氧等離子為(wei) 例，矽片上的光刻膠通過在氧等離子體(ti) 中發生化學反應，生成的氣態的CO，CO2和H2O等可以由真空係統抽走。幹法去膠適用於(yu) 絕大部分的去膠工藝，是當前的主流工藝。
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