最基本的等離子清洗設備由四大部分組成，即激發電源、真空泵、真空腔、反應氣體(ti) 源。

激發電源是提供氣體(ti) 放電能量來源的電源，可以采用不同的頻率；真空泵的主要作用是抽走副產(chan) 品，包括旋片式機械泵或增壓泵；真空腔內(nei) 帶有放電電離的電極，將反應氣體(ti) 變成等離子體(ti) ；反應氣體(ti) 源一般采用的氣體(ti) 有氬、氧、氫、氮、四氯化碳等單一氣體(ti) ，或兩(liang) 種氣體(ti) 混合使用。有許多因素支配著等離子體(ti) 清洗的效用，這些因素包含化學性質的選擇、製程參數、功率、時間、零件放置及電極構造。不同的清洗用途所需要的設備結構、電極接法、反應氣體(ti) 種類是不同的，其工藝原理也有很大區別，有的是物理反應，有的是化學反應，有的是物理化學兩(liang) 種作用都產(chan) 生，反應的有效性取決(jue) 於(yu) 等離子體(ti) 氣源、等離子係統的組合及等離子工藝操作參數。

1. 化學反應為(wei) 主的清洗

表麵反應以化學反應為(wei) 主的等離子清洗，習(xi) 慣上稱等離子清洗PE，許多氣體(ti) 的等離子態可產(chan) 生高活性的粒子。從(cong) 化學反應式可知，典型的PE工藝是氧氣或氫氣等離子體(ti) 工藝，用氧等離子通過化學反應，能夠使非揮發性有機物變成易揮發性的CO2和水汽，去除沾汙物，使表麵清潔；用氫的等離子可通過化學反應，去除金屬表麵氧化層，清潔金屬表麵。反應氣體(ti) 電離產(chan) 生的高活性反應粒子，在一定條件下與(yu) 被清洗物體(ti) 表麵發生化學反應，反應生成物是易揮發性物，可以被抽走，而針對被清除物的化學成分，選擇合適的反應氣體(ti) 組分是極為(wei) 重要的。PE的特點是表麵改性，清洗速度較快，選擇性好，對有機沾汙汙染比較有效。其不足是可能產(chan) 生氧化物。

2. 物理反應為(wei) 主的清洗

表麵反應以物理反應為(wei) 主的等離子清洗，也稱為(wei) 濺射腐蝕SPE或離子銑IM。表麵物理濺射是指等離子體(ti) 中的正離子在電場獲得能量去轟擊表麵，撞擊移去表麵分子片段和原子，使汙染物從(cong) 表麵去除，並能夠使表麵在分子級範圍改變微觀形態粗糙化，從(cong) 而改善表麵的粘結性能。氬氣本身是惰性氣體(ti) ，等離子態的氬氣並不和表麵發生反應，工藝是氬等離子通過物理濺射使表麵清潔。等離子體(ti) 物理清洗不會(hui) 產(chan) 生氧化副作用，保持被清洗物的化學純潔性，腐蝕作用各向異性，缺點是對表麵產(chan) 生很大的損害和熱效應，選擇性差，速度較低。

3. 反應離子腐蝕

化學清洗、物理清洗各有利弊，在反應離子腐蝕中把這兩(liang) 種機理結合起來，物理反應和化學反應都同時起重要作用，相互促進，其效果既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。

4. 順流等離子體(ti) 清洗

順流等離子體(ti) 也叫源室分腔式等離子體(ti) DPE，產(chan) 生等離子體(ti) 的源位於(yu) 等離子發生腔，待清洗的工件位於(yu) 工藝腔，把氣相反應粒子、原子團、光子等引入工藝腔，對工件進行清洗，把離子、電子基本濾除掉。2.45GHz順流等離子體(ti) 類型是用於(yu) 封裝類等離子清洗的主要形式，適於(yu) 清洗有機物。

5. 激發頻率分類

常見的等離子體(ti) 電源激發頻率有三種：激發頻率40kHz的等離子體(ti) 為(wei) 超聲等離子，發生的反應為(wei) 物理反應，清洗係統離子密度較低；13.56MHz的等離子體(ti) 為(wei) 射頻等離子體(ti) ，等離子體(ti) 發生的反應既有物理反應又有化學反應，離子密度和能量較高；2.45GHz的等離子體(ti) 為(wei) 微波等離子體(ti) ，離子濃度，反應為(wei) 化學反應。實際上，半導體(ti) 生產(chan) 中大多采用射頻或微波等離子體(ti) 清洗，而半導體(ti) 後部工序用戶用的等離子體(ti) 清洗設備大多數采用由鋁或不鏽鋼製造的方形、長方形金屬箱體(ti) ，電極為(wei) 內(nei) 置平行板狀結構。

各等離子體(ti) 清洗設備廠家針對不同的用戶需求，設計製造了許多種不同結構類型、不同電源頻率的清洗設備，各有所長，也就各有所短。選用等離子清洗設備前要搞清楚待清洗工件特征，要清除掉的沾汙物是什麽(me) ，待清洗工件在清洗過程中應避免什麽(me) ，是高溫、晶格損傷(shang) 、靜電損傷(shang) 還是二次汙染等，通過試驗結果確認、選購滿足不同工件對等離子清洗不同要求的設備。