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等離子清洗在PCB板的應用與(yu) 優(you) 勢
PCB(PrintedCircuit Board)也稱印刷電路板,線路板按層數來分的話分為(wei) 單麵板、雙麵板和多層線路板三個(ge) 大類。根據材料和結構,又可細分為(wei) PCB和
等離子清洗機在半導體(ti) 晶圓清洗工藝上的應用
隨著半導體(ti) 技術的不斷發展,對工藝技術的要求越來越高,特別是對半導體(ti) 圓片的表麵質量要求越來越嚴(yan) ,其主要原因是圓片表麵的顆粒和金屬雜質沾汙會(hui) 嚴(yan) 重影響器件的質量和成品
等離子清洗在miniled 基板清洗工藝中的應用
為(wei) 保障LED封裝工藝以及產(chan) 品的品質,通常會(hui) 在點銀膠、引線鍵合、LED封膠這三個(ge) 工藝之前,引入等離子清洗設備進行等離子表麵處理,來解決(jue) 以上的問題。
微波PLASMA在芯片封裝中的應用
微波PLASMA在芯片封裝中的應用芯片封裝屬於(yu) 整個(ge) 半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 鏈後段環節,封裝材料由最開始的金屬封裝,發展到陶瓷封裝,再到目前占市場95%份額的塑料封裝,其目的都
等離子清洗機對FPC工藝表麵處理有什麽(me) 效果?
等離子清洗機對FPC工藝表麵處理有什麽(me) 效果?微電子技術的進步使信息、通信和娛樂(le) 的集成成為(wei) 可能。利用等離子體(ti) 技術實現原子級工藝製造,使微電子器件的小型化成為(wei) 可能。
等離子清洗機在晶圓加工前處理中的應用
等離子清洗機在晶圓加工前處理中的應用隨著半導體(ti) 技術的不斷發展,對工藝技術的要求越來越高,特別是對半導體(ti) 晶圓表麵質量的要求。主要原因是芯片表麵的顆粒和金屬雜質的汙
IC製造過程中等離子體(ti) 去除光刻膠的應用
等離子去膠機工作原理:主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體(ti) 環境中發生反應,氧氣電離成氧原子並與(yu) 光刻膠發生化學反應,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
等離子清洗機在wafer晶圓清洗工藝上的應用
半導體(ti) 製造中需要一些有機物和無機物參與(yu) 完成,所以半導體(ti) 晶圓不可避免的被各種雜質汙染,等離子清洗機在半導體(ti) 晶圓清洗工藝上具有工藝簡單、操作方便、沒有廢料處理和環境汙染等問題。